واژه رسوب دهی فیزیکی بخار برای اولین بار در سال 1966 در کتاب
vapor deposition) )
نوشته (J.M. Blocher ,J.H.Oxley ,C.F.Powell) عنوان شد اما خیلی قبل تر از آنها در سال 1838، آقای Michael faraday از روش PVD برای رسوب دادن پوشش های خاصی استفاده کرد.
یک نوع رسوبدهی تحت خلاء می باشد که این واژه عموماً برای هر نوع رسوبدهی فیلم های نازک توسط متراکم کردن مواد تبخیر شده بر روی یک سطح انجام می شود اطلاق می گردد.
عبارت رسوب فیزیکی بخار (pvd)در اصل برای رسوب دادن فلزات توسط انتقال در خلا و بدون انجام واکنش شیمیایی استفاده می شود.
لینک منبع و پست :http://campiran.ir/project-105028-%d8%af%d8%a7%d9%86%d9%84%d9%88%d8%af-%d9%be%d8%a7%d9%88%d8%b1%d9%be%d9%88%db%8c%d9%86%d8%aa-%d8%b3%d9%85%db%8c%d9%86%d8%a7%d8%b1-%d9%be%d9%88%d8%b4%d8%b4-%d8%af%d9%87%db%8c-%d8%aa%d9%88/
- ۹۵/۰۶/۲۴